Indium Alloy Sputtering Target Dengan Substrat Disesuaikan Dipulih Dan Anodisasi

Deskripsi produk:

Produk Metal Sputtering Target kami membanggakan permukaan yang dipoles dan anodisasi, memberikan permukaan yang halus dan bersih untuk proses deposisi logam Anda.Fitur kompatibilitas substrat yang disesuaikan dari produk ini adalah apa yang membedakannya dari target metal sputtering lainnya yang tersedia di pasarDengan fitur ini, Anda dapat yakin bahwa produk ini kompatibel dengan bahan substrat spesifik Anda, memastikan proses deposisi yang lebih efisien dan efektif.

Produk Metal Sputtering Target kami tidak hanya serbaguna tapi juga tahan lama.memastikan bahwa itu akan melayani tujuannya untuk waktu yang lamaDaya tahannya juga terbukti ketika digunakan dalam detektor logam jatuh bebas, di mana ia dapat menahan dampak partikel logam.

Dapatkan tangan Anda pada produk Metal Sputtering Target hari ini dan merasakan perbedaan dalam proses deposisi logam Anda.kepadatan dan struktur kristal yang disesuaikan, dan kompatibilitas substrat yang disesuaikan menjadikannya pilihan yang sempurna untuk kebutuhan deposisi logam Anda.

Fitur:

• Nama produk: Target Metal Sputtering
• Proses pembentukan: Hot Isostatic Pressing (HIP)
• Konfigurasi Target: Tunggal atau Berganda
• Ketebalan permukaan: Ra < 0,8 Um
• Ketebalan: 10-600mm
• Struktur Kristal: Disesuaikan

Parameter teknis:

Aplikasi:

Produk Metal Sputtering Target tersedia dalam konfigurasi tunggal atau ganda, tergantung pada persyaratan spesifik aplikasi.yang memastikan ikatan yang kuat antara target dan plat pendukungHal ini memastikan bahwa produk dapat menahan pemboman ion energi tinggi yang sering dikaitkan dengan aplikasi penyemprotan.

Produk Metal Sputtering Target sangat ideal untuk digunakan dalam berbagai skenario.dimana digunakan untuk melapisi baja dengan lapisan tipis dari bahan yang berbedaHal ini membantu meningkatkan daya tahan dan kinerja baja, membuatnya ideal untuk digunakan dalam berbagai aplikasi.

Produk ini juga dapat digunakan dalam produksi Mesin Detektor Logam Conveyor.produk Metal Sputtering Target digunakan untuk membuat film tipis yang ditempatkan di permukaan pita pengangkutFilm tipis membantu meningkatkan sensitivitas detektor logam, membuatnya lebih efektif dalam mendeteksi benda logam yang mungkin ada di jalur pengangkut.

Produk Metal Sputtering Target dirancang dengan kekasaran permukaan Ra < 0,8 Um. Ini memastikan bahwa produk sangat seragam dan konsisten,yang penting untuk mencapai hasil penyemprotan berkualitas tinggiProduk ini juga dirancang untuk tahan lama, memastikan bahwa ia dapat menahan bombardemen ion energi tinggi yang sering dikaitkan dengan aplikasi penyemprotan.

Pengaturan:

Sesuaikan produk Target Metal Sputtering Anda dengan Layanan Penyesuaian Produk kami.

Struktur Kristal:Disesuaikan

Permukaan:Dipoli,Anodizing

Kemurnian:99.99%

Metode Lapisan:Sputtering

Teknik:Dipalsukan Dan Mesin CNC

Dengan Electrostatic Powder Coating Gun, targetmu akan memiliki lapisan berkualitas tinggi yang konsisten dan tahan lama.Anda dapat yakin bahwa produk Anda bebas dari kotoran apa punBiarkan kami membantu Anda membuat sasaran Metal Sputtering yang sesuai dengan spesifikasi Anda.

Dukungan dan Layanan:

Target Metal Sputtering kami diproduksi dengan standar kualitas tertinggi dan tersedia dalam berbagai bahan dan ukuran.Tim dukungan teknis kami tersedia untuk membantu Anda dengan pertanyaan atau masalah yang berkaitan dengan penggunaan produk kamiKami juga menawarkan berbagai layanan, termasuk target bonding, target recycling, dan custom target manufacturing.Tujuan kami adalah untuk memberikan pelanggan kami dengan pengalaman terbaik ketika menggunakan Metal kita.